子午和弧矢分开大，核心是像散超标，常伴随场曲不匹配，按“先诊断-调结构-强约束-优参数-验结果”五步解决。

一、快速诊断（抓本质）

• 看图表：场曲/畸变图里子午(T)、弧矢(S)像面分离；点列图呈椭圆/十字；MTF虚实线平行分离，边缘视场更明显。

• 判根源：全视场均匀分离→场曲主导；分离随视场增大→像散主导；局部异常→光阑/偏心/非对称结构问题。

• 查操作数：用ASTI（像散）、FCUR（场曲）、PTZR（匹兹伐尔和）量化，定位最大贡献面。

二、结构级优化（优先改架构）

• 对称化：用近似对称结构（如双高斯），抵消轴外像差；光阑尽量放中间，降低非对称像散。

• 光阑与弯月：前后移动光阑，改变轴外光束入射角度；加弯月透镜或厚透镜，引入负匹兹伐尔，压平场曲。

• 增自由度：加非球面/自由曲面（优先轴外关键面），校正高级像散；选低色散ED/高折射率玻璃，平衡光焦度。

• 扩束/分群：视场过大时，拆分透镜组（如前组负责大视场，后组校正像差），避免单组负担过重。

三、Zemax评价函数强约束（精准控像差）

• 核心操作数：

◦ ASTI(视场,波长)：控制像散，目标0，权重5–10。

◦ FCUR(视场,波长,子午/弧矢)：约束场曲，权重3–5。

◦ PTZR：目标趋近0，权重2–3，平衡匹兹伐尔和。

◦ DIFF(TRAY/SRAY)：约束子午/弧矢光线落点差，权重3–5。

◦ MTFT/MTFS：对边缘视场MTF设目标，权重1–3（避免硬拉）。

• 边界保护：加MNCT/MXCT（中心厚度）、MNED/MXED（边缘厚度），防止结构异常。

四、参数优化与求解（释放变量）

• 变量设置：释放曲率、厚度、间隔、非球面系数、玻璃折射率/阿贝数（多组元时）。

• 求解策略：先用局部优化收敛，再开全局优化（如Genetic）跳局部最优；复杂系统可分群优化，再联合微调。

• 离焦补偿：用DEFOC操作数找最佳像面，使T/S像面尽可能重合。

五、验证与进阶（工程落地）

• 仿真验证：看光扇图、点列图、MTF，确认T/S分离改善；做热分析，确保温度变化下仍稳定。

• 制造适配：控制非球面/自由曲面加工公差；用公差分析评估偏心倾斜对像散的影响，必要时加主动对准流程。

• 常见坑：别只靠MTF硬拉，优先调结构；大视场避免单组过强光焦度；非球面别加在轴上，优先轴外面。

六、速查清单（30分钟见效）

1. 移动光阑位置，观察T/S分离变化。

2. 对轴外关键面加非球面，释放前3–4阶系数。

3. 评价函数加ASTI、FCUR、PTZR，权重按5:3:2设置。

4. 全局优化100–200代，再局部收敛。

5. 用DIFF约束T/S光线落点，边缘视场MTF设保底目标。